詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 立方體偏振分束器
偏振片鍍在立方體分光鏡的內表面。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發生在偏離90°角的反射上。
Eksma 立方體偏振分束器
產品介紹
Ø耐用方便
Ø針對流行的激光波長進行了優化
偏振片鍍在立方分光鏡的內表面。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發生在偏離90°角的反射上。立方體偏振分光鏡可以針對特定波長進行優化,以為激光應用提供優良的性能。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
BK7, unmounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0101 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0101-M2Ps | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0104 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0104-M2Ps | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0102 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0102-M2Ps | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0103 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0103-M2Ps | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
UVFS, unmounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1103 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1103-M2Ps | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153-M2P | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203-M2P | 280 nm | Rs>99 | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1105 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1105-M2Ps | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1107 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1107-M2Ps | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
材料 | BK7, UV FS |
表面質量 | 40-20表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
表面平整度 | λ/4 @ 633 nm |
通光孔徑 | 90% of the face size |
光束偏差 | <3 arcmin |
尺寸公差 | ±0.3 mm |
激光損傷閾值 | 0.3 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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